ディスプレイに関する技術全般
LCD(バックライトを含む)，PDP，有機／無機EL，CRT，FED，VFD，LEDなどの
ディスプレイに関するデバイス，部品・材料及び応用技術
2011年1月
28日(金) 13：00〜16：45
29日(土) 9：00〜14：30
照明学会 光関連材料・デバイス研究専門部会
映像情報メディア学会 情報ディスプレイ研究委員会
電子情報通信学会 電子ディスプレイ研究専門委員会
電気学会 スマートユビキタスディスプレイ調査専門委員会
ＳＩＤ日本支部
高知工科大学 C棟
http://www.kochi-tech.ac.jp/kut_J/university/access-info.html
〒782-8502 高知県香美市土佐山田町宮ノ口185 TEL：0887-53-1111 FAX：0887-57-2000
最寄駅：JR土佐山田駅からバス約10分ですが、高知空港
大学間チャーターバス(1往復分)を用意する予定です。
交通アクセス案内(PDF形式)
[なお、講演募集案内時掲載の交通アクセスは更新しております。こちらが最新ですのでご覧下さい。]
高知工科大学 平尾 孝 先生、古田 守 先生
furuta_mamoru@kochi-tech_ac_jp(メールご利用のときはアドレスの ”_” を ”.”(dot)に変更してご利用下さい．)
事前申し込みは必要ありません。
聴講参加は無料です。予稿集ご希望の場合は、有料頒布します。
発表形式：口頭発表(発表8分，質疑なし)付きのポスター講演
| 1月28日(金) 13：00〜15：06 口頭発表，15：15〜16：45 ポスター発表 | ||
|---|---|---|
| 1 | ガラス基板上へのパターン化に成功した酸化亜鉛(ZnO)薄膜蛍光体 〜スパッタリングによる薄膜成長、ウェットエッチング、熱処理を経て〜 |
○王 大鵬・川原村敏幸・李 朝陽・ 平尾 孝(高知工大) |
| 2 | 電子線励起紫外発光ZnAl2O4蛍光体の焼成条件依存性 | ○井口 拓・小南裕子・中西洋一郎・ 原 和彦(静岡大)・ 大西彰正・北浦 守(山形大) |
| 3 | 355 nmレーザアニールによる希土類添加SrGa2S4薄膜蛍光体の作製 | ○山崎貴久(静岡大)・清野俊明(日本製鋼所)・ 小南裕子・中西洋一郎(静岡大)・ 畑中義式(愛知工科大)・原 和彦(静岡大) |
| 4 | 電子スピン共鳴によるγ-AlON中二価マンガンイオンの局所構造解析 | ○北浦 守(山形大)・解 栄軍・武田隆史・ 広崎尚人(物材機構)・ 大西彰正・佐々木 実(山形大) |
| 5 | 溶液合成法により作製したYAG:Ceにおける生成過程の解析 | ○村川琢郎(鳥取大)・大倉 央(鳥取大/メルク)・ 本間徹生(高輝度光科学研究センター)・ 宮本快暢・大観光徳(鳥取大/TEDREC) |
| 6 | 多源蒸着法で作製したCuAlS2:Mn蛍光体薄膜の結晶学特性と発光特性 | ○小柴貴裕・中村祐介・宮本快暢・大観光徳(鳥取大) |
| 7 | Ba3Si6012N2:Eu2+蛍光体のフォト−および熱ルミネッセンス評価 | ○石岡 亮・五十嵐航平・福田武司(埼玉大)・ 木島直人(三菱化学)・鎌田憲彦(埼玉大) |
| 8 | SrGa2S4:Eu微粒子蛍光体を用いてスピンコーティング法により作製した緑色無機薄膜EL素子 | ○山下雄大・俵谷佳典・宮本快暢・大観光徳(鳥取大) |
| 9 | 赤外線急速加熱によるZnS系無機EL蛍光体の作製 | ○堀口昌吾・紺谷拓哉・堀田昌宏(奈良先端大)・ 田口信義(イメージテック)・浦岡行治(奈良先端大/CREST) |
| 10 | トップエミッション型液相合成ZnOナノ結晶紫外発光EL素子の電流電圧特性 | ○板谷和樹・河崎勇人・外山利彦・岡本博明(阪大) |
| 11 | 深紫外領域AlGaN系結晶のフォトルミネッセンス評価 | ○五十嵐航平・石岡 亮・塚田悠介・福田武司・ 本多善太郎(埼玉大)・ 平山秀樹(理研)・鎌田憲彦(埼玉大) |
| 12 | ミストデポジション法による酸化マグネシウム(MgO)薄膜作製 〜大気圧下、低温成長への挑戦〜 |
○川原村敏幸(高知工大)・織田容征・白幡孝洋(TMEIC)・ 井川拓人・伊藤大師(京大院工)・吉田章男(TMEIC)・ 藤田静雄(京大院工)・平尾 孝(高知工大) |
| 13 | ナノ粒子散布による微細光学素子形状の3次元SEM測定 | ○長南隆之・片桐 麦・川上 徹(東北大)・ 内田龍男(仙台高専) |
| 14 | モスキートノイズの定量的評価 | ○谷口香苗(近大高専) |
| 1月29日(土) 9：00〜11：50 口頭発表，13：00〜14：30ポスター発表 | ||
| 15 | カーボンナノチューブパターン化エミッタと電子放出デバイス応用 | ○古田寛・河原村敏幸・古田守・松田時宜・ 李朝陽・平尾孝 (高知工大) |
| 16 | PDP用低電圧電極保護膜におけるプロセス耐性の改善 | ○本山 靖・加藤大典・関 昌彦(NHK) |
| 17 | ACPDPの書き込み放電遅れ時間対初期電子数の理論的考察 | ○坂井徹男(ディスプレイ研究所)・橘 邦英(愛媛大) |
| 18 | 偏光板の複素屈折率のエリプソメトリによる解析 | ○近藤 勉・石鍋隆宏・宮下哲哉(東北大)・ 内田龍男(仙台高専) |
| 19 | TAOS-TFT LCDにおける再充電効果の数値解析 | ○ 川野 英郎 |
| 20 | ネマチック液晶材料によるポリビニルシンナメート配向膜の容易軸制御 | ○山口留美子・池谷正輝(秋田大) |
| 21 | アダプティブディミング方式によるLCDの画質劣化の評価と低減方法 | ○榊原和真・鈴木千晴・志賀智一(電通大) |
| 22 | 低温形成表示デバイス向け絶縁膜の新規対向電極CVD法による形成 | ○松田時宜・古田 守・平松孝浩・ 古田 寛・平尾 孝(高知工大) |
| 23 | フレキシブルディスプレイ作製に向けた転写技術の開発 | ○中嶋宜樹・武井達哉・藤崎好英・山本敏裕(NHK)・ 細井雅之・木下彰宏・古川忠宏(共同印刷)・藤掛英夫(NHK) |
| 24 | 光重合型液晶性高分子膜のゲート絶縁膜への応用とその電気的評価の研究 | ○清水敦之・神戸啓太・飯村靖文(東京農工大) |
| 25 | 有機EL素子のヘテロ界面形成とその素子特性への影響に関する研究 | 宮崎喬大・○稲富雅彰・飯村靖文(東京農工大) |
| 26 | OLEDにおける注入および空間電荷制限に対するJ-V理論式の考察 | ○古庄啓太郎・服部励治・李 相根(九大) |
| 27 | 有機ELディスプレイのマルチライン駆動 | ○古賀宗典・服部励治(九大) |
| 28 | 単層構造マルチタッチハイブリッド容量式タッチパネルの開発 | ○慶 奎元・弓削勝忠・弓指洋平・服部励治(九大) |
| 29 | 相補型フィールドオフセットサンプリング走査の提案とスーパーハイビジョンプロジェクタへの適用 | ○岡野文男(NHK-ES)・金澤 勝・日下部裕一(NHK)・ 配野泰行・古屋正人・佐藤正人(JVC Kenwood holdings) |
| 30 | RGBW4色液晶ディスプレイの表示信号処理方式 | ○犬塚達基(日立) |
| 31 | 電子ペーパーディスプレイへの無線給電システム開発 | ○弓指洋平・服部励治(九大) |
| 32 | 外光抑制型フロントプロジェクタ用スクリーン | ○佐藤良太・片桐 麦・鈴木芳人・鹿野 満(東北大)・ 内田龍男(仙台高専) |
| 33 | DFD技術を用いたリアルタイム実写3D映像の表示 | ○安藤康子・磯 和之・小澤史朗・ 向内隆文・松浦宣彦(NTT) |
| 34 | レンチキュラレンズの波型化による高透過液晶ディスプレイのモアレ低減技術 | ○杉田辰哉(日立ディスプレイズ)・岸岡淳史(日立)・ 佐々木 誠・白石恭久・小村真一・ 今山寛隆(日立ディスプレイズ) |
日時：1月28日(金) 17：00〜19：00
場所：学内食堂
参加費：4,000円
申し込み：当日受付
田中 克(照明学会 光関連材料・デバイス研究専門部会)
NHK放送技術研究所 表示･機能素子
Tel:03-5494-3266 Fax: 03-5494-3297
E-mail: tanaka_k-ob@nhk_or_jp (メールご利用のときはアドレスの ”_” を ”.”(dot)に変更してご利用下さい．)